ALD قاعدة الكوارتز المنصهرة

باعتبارنا شركة متخصصة في تصنيع وتوريد منتجات ALD Fused Quartz Pedestal في الصين، تم تصميم VeTek Semiconductor ALD Fused Quartz Pedestal خصيصًا للاستخدام في ترسيب الطبقة الذرية (ALD)، وترسيب البخار الكيميائي منخفض الضغط (LPCVD) بالإضافة إلى عملية رقاقة الانتشار، مما يضمن ترسيب موحد للأغشية الرقيقة على أسطح الرقاقة. مرحبا بكم في مزيد من الاستفسارات الخاصة بك.

إرسال استفسار

وصف المنتج

تلعب VeTek Semiconductor ALD Fused Quartz Pedestal دورًا رئيسيًا في عملية تصنيع أشباه الموصلات كهيكل دعم لـقارب الكوارتز، والذي يستخدم لعقدرقاقة. تساعد قاعدة الكوارتز المنصهرة على تحقيق ترسيب موحد للأغشية من خلال الحفاظ على درجة حرارة ثابتة، مما يؤثر بشكل مباشر على أداء وموثوقية أجهزة أشباه الموصلات. بالإضافة إلى ذلك، تضمن قاعدة الكوارتز التوزيع الموحد للحرارة والضوء في غرفة العملية، وبالتالي تحسين الجودة الشاملة لعملية الترسيب.

ALD fused silica susceptor is used to support the quartz boat on which the wafer is placed

ALD مزايا مادة قاعدة الكوارتز المنصهرة

مقاومة درجات الحرارة العالية: تصل نقطة تليين قاعدة الكوارتز المنصهرة إلى حوالي 1730 درجة مئوية، ويمكنها تحمل درجة حرارة التشغيل العالية من 1100 درجة مئوية إلى 1250 درجة مئوية لفترة طويلة، ويمكن أن تتعرض لبيئات درجات الحرارة القصوى حتى 1450 درجة مئوية. لفترة قصيرة.

مقاومة ممتازة للتآكل: الكوارتز المنصهر خامل كيميائيًا للغاية لجميع الأحماض تقريبًا باستثناء حمض الهيدروفلوريك. مقاومته للأحماض أعلى 30 مرة من السيراميك و150 مرة أعلى من الفولاذ المقاوم للصدأ. الكوارتز المنصهر لا مثيل له كيميائيًا في درجات الحرارة المرتفعة، مما يجعله مادة مثالية للعمليات الكيميائية المعقدة.

الاستقرار الحراري: السمة الرئيسية لمادة قاعدة الكوارتز المنصهرة هي معامل التمدد الحراري المنخفض للغاية. وهذا يعني أنه يمكنه بسهولة التعامل مع التقلبات الكبيرة في درجات الحرارة دون أن يتشقق. على سبيل المثال، يمكن تسخين كوارتز السيليكا المنصهر بسرعة إلى 1100 درجة مئوية وغمره مباشرة في الماء البارد دون تلف، وهي ميزة مهمة في ظروف التصنيع عالية الضغط.

عملية تصنيع صارمة: تلتزم عملية إنتاج قواعد السيليكا المنصهرة بشكل صارم بمعايير الجودة العالية. تستخدم عملية الإنتاج عمليات التشكيل واللحام الساخنة، والتي عادة ما يتم الانتهاء منها في بيئة غرفة نظيفة من فئة 10,000. بعد ذلك، يتم تنظيف قاعدة زجاج الكوارتز المنصهر جيدًا باستخدام الماء عالي النقاوة (18 MΩ) لضمان نقاء المنتج والأداء الأمثل. يتم فحص كل منتج نهائي وتنظيفه وتعبئته بدقة في غرفة نظيفة من فئة 1000 أو أعلى للوفاء بالمعايير العالية لصناعة أشباه الموصلات.

مادة كوارتز السيليكا غير الشفافة عالية النقاء

تستخدم قاعدة الكوارتز المنصهرة VeTeksemi ALD مادة كوارتز غير شفافة عالية النقاء لعزل الحرارة والضوء بشكل فعال. إن خصائص التدريع الحراري والضوء الممتازة التي تتمتع بها تمكنها من الحفاظ على توزيع موحد لدرجة الحرارة في غرفة المعالجة، مما يضمن التوحيد والاتساق الرقيقترسيب الفيلمعلى سطح الرقاقة.

مجالات التطبيق

تُستخدم قواعد الكوارتز المنصهرة على نطاق واسع في العديد من مجالات صناعة أشباه الموصلات نظرًا لأدائها الممتاز. فيعملية ترسيب الطبقة الذرية (ALD).فهو يدعم التحكم الدقيق في نمو الفيلم ويضمن تقدم أجهزة أشباه الموصلات. فيعملية ترسيب البخار الكيميائي منخفض الضغط (LPCVD).، يوفر الثبات الحراري وقدرة التدريع الضوئي لقاعدة الكوارتز عالية النقاء ضمانات لترسيب موحد للأغشية الرقيقة، وبالتالي تحسين أداء الجهاز وإنتاجيته.

بالإضافة إلى ذلك، في عملية رقاقة الانتشار، تضمن مقاومة درجات الحرارة العالية ومقاومة التآكل الكيميائي لقاعدة الكوارتز المنصهرة موثوقية واتساق عملية تطعيم مواد أشباه الموصلات. تحدد هذه العمليات الرئيسية الأداء الكهربائي لأجهزة أشباه الموصلات، وتلعب مواد الكوارتز المنصهرة عالية الجودة دورًا لا غنى عنه في تحقيق أفضل النتائج لهذه العمليات.

متاجر VeTek Semiconductor ALD المنصهرة بقاعدة الكوارتز:

Fused Quartz Pedestal shops