الصين عملية SiC Epitaxy الصانع والمورد والمصنع

توفر طبقات الكربيد الفريدة من نوعها من VeTek Semiconductor حماية فائقة لأجزاء الجرافيت في عملية SiC Epitaxy لمعالجة أشباه الموصلات ومواد أشباه الموصلات المركبة المطلوبة. والنتيجة هي إطالة عمر مكونات الجرافيت، والحفاظ على قياس العناصر الكيميائية للتفاعل، وتثبيط هجرة الشوائب إلى تطبيقات النمو الفوقي والبلوري، مما يؤدي إلى زيادة الإنتاجية والجودة.

تحمي طلاءات كربيد التنتالوم (TaC) الخاصة بنا مكونات الفرن والمفاعلات الحرجة عند درجات حرارة عالية (تصل إلى 2200 درجة مئوية) من الأمونيا الساخنة والهيدروجين وأبخرة السيليكون والمعادن المنصهرة. تتمتع VeTek Semiconductor بمجموعة واسعة من إمكانيات معالجة وقياس الجرافيت لتلبية متطلباتك المخصصة، حتى نتمكن من تقديم طلاء مدفوع الرسوم أو خدمة كاملة، مع فريقنا من المهندسين الخبراء المستعدين لتصميم الحل المناسب لك ولتطبيقك المحدد .

بلورات أشباه الموصلات المركبة

يمكن لشركة VeTek Semiconductor توفير طلاءات TaC خاصة لمختلف المكونات والناقلات. من خلال عملية الطلاء الرائدة في صناعة VeTek Semiconductor، يمكن لطلاء TaC الحصول على درجة نقاء عالية وثبات في درجات الحرارة العالية ومقاومة كيميائية عالية، وبالتالي تحسين جودة المنتج لطبقات TaC/GaN البلورية وEPl، وإطالة عمر مكونات المفاعل المهمة.

العوازل الحرارية

مكونات النمو البلوري SiC وGaN وAlN بما في ذلك البوتقات وحوامل البذور والحارفات والمرشحات. التجميعات الصناعية بما في ذلك عناصر التسخين المقاومة، والفوهات، وحلقات التدريع وتركيبات النحاس، ومكونات مفاعل GaN وSiC الفوقي CVD بما في ذلك حاملات الرقاقات، وصواني الأقمار الصناعية، ورؤوس الدش، والأغطية والركائز، ومكونات MOCVD.

غاية:

حامل الرقاقة LED (الصمام الثنائي الباعث للضوء).

ALD (أشباه الموصلات) المتلقي

مستقبل EPI (عملية Epitaxy SiC)

TaC المغلفة الأقمار الصناعية Susceptor TaC طلاء Susceptor وحلقة أجزاء طلاء TaC أجزاء نصف القمر مع طلاء TaC

مقارنة طلاء SiC وطلاء TaC:

	كربيد كربيد	تاك
الخصائص الرئيسية	نقاء عالي للغاية، مقاومة ممتازة للبلازما	استقرار ممتاز في درجات الحرارة العالية (توافق عملية درجات الحرارة العالية)
نقاء	>99.9999%	>99.9999%
الكثافة (جم/سم3)	3.21	15
الصلابة (كجم/مم2)	2900-3300	6.7-7.2
المقاومة [Ωcm]	0.1-15,000	<1
الموصلية الحرارية (W/mK)	200-360	22
معامل التمدد الحراري (10-6/°C)	4.5-5	6.3
طلب	رقصة سيراميك لمعدات أشباه الموصلات (حلقة التركيز، رأس الدش، الرقاقة الوهمية)	SiC نمو بلوري واحد، Epi، أجزاء معدات LED للأشعة فوق البنفسجية

View as

كربيد التنتالوم المسامي

VeTek Semiconductor هي شركة متخصصة في تصنيع ورائدة منتجات كربيد التنتالوم المسامية في الصين. عادة ما يتم تصنيع كربيد التنتالوم المسامي بطريقة ترسيب البخار الكيميائي (CVD)، مما يضمن التحكم الدقيق في حجم المسام وتوزيعها، وهو أداة مادية مخصصة للبيئات القاسية ذات درجات الحرارة العالية. نرحب بمزيد من التشاور الخاص بك.

اقرأ أكثر إرسال استفسار

حلقة كربيد التنتالوم

باعتبارها شركة مصنعة ومنتجة متقدمة لمنتجات Tantalum Carbide Ring في الصين، فإن VeTek Semiconductor Tantalum Carbide Ring لديها صلابة عالية للغاية، ومقاومة التآكل، ومقاومة درجات الحرارة العالية والاستقرار الكيميائي، وتستخدم على نطاق واسع في مجال تصنيع أشباه الموصلات. خاصة في CVD، PVD، عملية زرع الأيونات، عملية النقش، ومعالجة ونقل الرقاقات، فهو منتج لا غنى عنه لمعالجة وتصنيع أشباه الموصلات. نتطلع إلى مزيد من التشاور الخاص بك.

اقرأ أكثر إرسال استفسار

دعم طلاء كربيد التنتالوم

كشركة متخصصة في تصنيع منتجات دعم طلاء كربيد التنتالوم ومصنع في الصين، يتم استخدام دعم طلاء كربيد التنتالوم شبه الموصلات VeTek عادةً للطلاء السطحي للمكونات الهيكلية أو مكونات الدعم في معدات أشباه الموصلات، خاصة لحماية سطح مكونات المعدات الرئيسية في عمليات تصنيع أشباه الموصلات مثل الأمراض القلبية الوعائية وPVD. نرحب بمزيد من التشاور الخاص بك.

اقرأ أكثر إرسال استفسار

التنتالوم كربيد دليل الدائري

VeTek Semiconductor هي شركة مصنعة محترفة ورائدة في منتجات Tantalum Carbide Guide Ring في الصين. إن حلقة دليل كربيد التنتالوم (TaC) الخاصة بنا عبارة عن مكون حلقة عالي الأداء مصنوع من كربيد التنتالوم، والذي يستخدم بشكل شائع في معدات معالجة أشباه الموصلات، خاصة في البيئات ذات درجة الحرارة العالية والتآكل الشديد مثل الأمراض القلبية الوعائية، وPVD، والحفر والانتشار. تلتزم شركة VeTek Semiconductor بتوفير التكنولوجيا المتقدمة وحلول المنتجات لصناعة أشباه الموصلات، وترحب باستفساراتك الإضافية.

اقرأ أكثر إرسال استفسار

TaC طلاء دوران Susceptor

كشركة مصنعة محترفة ومبتكرة وقائدة لمنتجات TaC Coating Rotation Susceptor في الصين. عادة ما يتم تركيب جهاز VeTek Semiconductor TaC Coating Rotation Susceptor في معدات ترسيب البخار الكيميائي (CVD) ومعدات تنضيد الشعاع الجزيئي (MBE) لدعم وتدوير الرقائق لضمان ترسيب موحد للمواد وتفاعل فعال. وهو عنصر رئيسي في معالجة أشباه الموصلات. نرحب بمزيد من التشاور الخاص بك.

اقرأ أكثر إرسال استفسار

بوتقة طلاء CVD TaC

VeTek Semiconductor هي شركة مصنعة محترفة ورائدة في منتجات بوتقة طلاء CVD TaC في الصين. تعتمد بوتقة طلاء CVD TaC على طلاء كربون التنتالوم (TaC). يتم تغطية طلاء كربون التنتالوم بالتساوي على سطح البوتقة من خلال عملية ترسيب البخار الكيميائي (CVD) لتعزيز مقاومتها للحرارة ومقاومتها للتآكل. إنها أداة مادية تستخدم خصيصًا في البيئات القاسية ذات درجات الحرارة العالية. نرحب بمزيد من التشاور الخاص بك.

اقرأ أكثر إرسال استفسار

<1 2 3 4 5...6 >

باعتبارنا مصنعًا وموردًا محترفًا عملية SiC Epitaxy في الصين، لدينا مصنعنا الخاص. سواء كنت بحاجة إلى خدمات مخصصة لتلبية الاحتياجات المحددة لمنطقتك أو ترغب في شراء عملية SiC Epitaxy المتقدمة والمتينة المصنوعة في الصين، يمكنك ترك رسالة لنا.