الصين عملية SiC Epitaxy الصانع والمورد والمصنع

توفر طبقات الكربيد الفريدة من نوعها من VeTek Semiconductor حماية فائقة لأجزاء الجرافيت في عملية SiC Epitaxy لمعالجة أشباه الموصلات ومواد أشباه الموصلات المركبة المطلوبة. والنتيجة هي إطالة عمر مكونات الجرافيت، والحفاظ على قياس العناصر الكيميائية للتفاعل، وتثبيط هجرة الشوائب إلى تطبيقات النمو الفوقي والبلوري، مما يؤدي إلى زيادة الإنتاجية والجودة.

تحمي طلاءات كربيد التنتالوم (TaC) الخاصة بنا مكونات الفرن والمفاعلات الحرجة عند درجات حرارة عالية (تصل إلى 2200 درجة مئوية) من الأمونيا الساخنة والهيدروجين وأبخرة السيليكون والمعادن المنصهرة. تتمتع VeTek Semiconductor بمجموعة واسعة من إمكانيات معالجة وقياس الجرافيت لتلبية متطلباتك المخصصة، حتى نتمكن من تقديم طلاء مدفوع الرسوم أو خدمة كاملة، مع فريقنا من المهندسين الخبراء المستعدين لتصميم الحل المناسب لك ولتطبيقك المحدد .

بلورات أشباه الموصلات المركبة

يمكن لشركة VeTek Semiconductor توفير طلاءات TaC خاصة لمختلف المكونات والناقلات. من خلال عملية الطلاء الرائدة في صناعة VeTek Semiconductor، يمكن لطلاء TaC الحصول على درجة نقاء عالية وثبات في درجات الحرارة العالية ومقاومة كيميائية عالية، وبالتالي تحسين جودة المنتج لطبقات TaC/GaN البلورية وEPl، وإطالة عمر مكونات المفاعل المهمة.

العوازل الحرارية

مكونات النمو البلوري SiC وGaN وAlN بما في ذلك البوتقات وحوامل البذور والحارفات والمرشحات. التجميعات الصناعية بما في ذلك عناصر التسخين المقاومة، والفوهات، وحلقات التدريع وتركيبات النحاس، ومكونات مفاعل GaN وSiC الفوقي CVD بما في ذلك حاملات الرقاقات، وصواني الأقمار الصناعية، ورؤوس الدش، والأغطية والركائز، ومكونات MOCVD.

غاية:

حامل الرقاقة LED (الصمام الثنائي الباعث للضوء).

ALD (أشباه الموصلات) المتلقي

مستقبل EPI (عملية Epitaxy SiC)

TaC المغلفة الأقمار الصناعية Susceptor TaC طلاء Susceptor وحلقة أجزاء طلاء TaC أجزاء نصف القمر مع طلاء TaC

مقارنة طلاء SiC وطلاء TaC: