حلقة كربيد التنتالوم

باعتبارها شركة مصنعة ومنتجة متقدمة لمنتجات Tantalum Carbide Ring في الصين، فإن VeTek Semiconductor Tantalum Carbide Ring لديها صلابة عالية للغاية، ومقاومة التآكل، ومقاومة درجات الحرارة العالية والاستقرار الكيميائي، وتستخدم على نطاق واسع في مجال تصنيع أشباه الموصلات. خاصة في CVD، PVD، عملية زرع الأيونات، عملية النقش، ومعالجة ونقل الرقاقات، فهو منتج لا غنى عنه لمعالجة وتصنيع أشباه الموصلات. نتطلع إلى مزيد من التشاور الخاص بك.

إرسال استفسار

وصف المنتج

تستخدم حلقة كربيد التنتالوم (TaC) من VeTek Semiconductor الجرافيت عالي الجودة كمادة أساسية، وبفضل هيكلها الفريد، فهي قادرة على الحفاظ على شكلها وخصائصها الميكانيكية في ظل الظروف القاسية لفرن النمو البلوري. تمنح مقاومة الجرافيت العالية للحرارة ثباتًا ممتازًا في جميع أنحاءعملية نمو الكريستال.

الطبقة الخارجية من حلقة TaC مغطاة بـطلاء كربيد التنتالوم، وهي مادة معروفة بصلابتها العالية للغاية، ونقطة انصهارها تزيد عن 3880 درجة مئوية، ومقاومتها الممتازة للتآكل الكيميائي، مما يجعلها مناسبة بشكل خاص لبيئات التشغيل ذات درجات الحرارة العالية. يوفر طلاء كربيد التنتالوم حاجزًا قويًا لمنع التفاعلات الكيميائية العنيفة بشكل فعال وضمان عدم تآكل قلب الجرافيت بواسطة غازات الفرن ذات درجة الحرارة العالية.

خلالنمو بلورات كربيد السيليكون (SiC).تعد ظروف النمو المستقرة والموحدة أمرًا أساسيًا لضمان بلورات عالية الجودة. تلعب حلقة طلاء كربيد التنتالوم دورًا حيويًا في تنظيم تدفق الغاز وتحسين توزيع درجة الحرارة داخل الفرن. كحلقة توجيه للغاز، تضمن حلقة TaC توزيعًا موحدًا للطاقة الحرارية وغازات التفاعل، مما يضمن نموًا واستقرارًا موحدًا لبلورات SiC.

بالإضافة إلى ذلك، فإن الموصلية الحرارية العالية للجرافيت جنبًا إلى جنب مع التأثير الوقائي لطبقة كربيد التنتالوم تمكن حلقة دليل TaC من العمل بثبات في بيئة درجة الحرارة العالية المطلوبة لنمو بلورات SiC. تعد قوتها الهيكلية واستقرار أبعادها أمرًا بالغ الأهمية للحفاظ على الظروف في الفرن، مما يؤثر بشكل مباشر على جودة البلورات المنتجة. من خلال تقليل التقلبات الحرارية والتفاعلات الكيميائية داخل الفرن، تساعد حلقة طلاء TaC على توليد بلورات ذات خصائص إلكترونية ممتازة لتطبيقات أشباه الموصلات عالية الأداء.

تعتبر حلقة كربيد التنتالوم من VeTek Semiconductor مكونًا رئيسيًا فيأفران نمو بلورات كربيد السيليكونوتتميز بمتانتها الممتازة وثباتها الحراري ومقاومتها للمواد الكيميائية. مزيجها الفريد من قلب الجرافيت وطلاء TaC يسمح لها بالحفاظ على السلامة الهيكلية والأداء الوظيفي في ظل الظروف القاسية. من خلال التحكم الدقيق في درجة الحرارة وتدفق الغاز داخل الفرن، توفر حلقة الطلاء TaC الظروف اللازمة لإنتاج بلورات SiC عالية الجودة، والتي تعد ضرورية لإنتاج مكونات أشباه الموصلات المتطورة.

طلاء كربيد التنتالوم (TaC) على مقطع عرضي مجهري：

Tantalum carbide (TaC) coating on a microscopic cross-section 1