حلقة مطلية بـ TaC لمفاعل SiC الفوقي

VeTek Semiconductor عبارة عن حلقة مطلية بـ TaC واسعة النطاق لمصنع ومبتكر مفاعل SiC الفوقي في الصين. لقد تخصصنا في طلاء TaC لسنوات عديدة. تتميز منتجاتنا بدرجة نقاء عالية وثبات عالي ومقاومة ممتازة للتآكل وقوة ربط عالية. نحن ننظر إلى الأمام لتصبح شريكك على المدى الطويل في الصين.

إرسال استفسار

وصف المنتج

مقدمة عن المنتج للحلقة المطلية بـ TaC لمفاعل SiC الفوقي

VeTek Semiconductor هي شركة مشهورة مقرها في الصين، ومعروفة بخبرتها في تصنيع طلاءات TaC وSiC عالية الجودة، بالإضافة إلى الحلقة المطلية بـ TaC عالية النقاء لمفاعل SiC الفوقي. نحن نفخر بتقديم منتجات متفوقة بأسعار تنافسية. نحن ندعوك بحرارة للتواصل معنا واكتشاف الحلول الاستثنائية التي نقدمها.

تلعب حلقاتنا المطلية بـ TaC الخاصة بمفاعلات SiC الفوقي دورًا حاسمًا. تعد هذه الحلقات جزءًا لا يتجزأ من مجموعة نصف القمر لدينا، حيث توفر وظائف أساسية مثل دعم الركيزة والتحكم الدقيق في درجة الحرارة والعزل الحراري الفعال والتهوية الفعالة والحماية الموثوقة. من خلال العمل بشكل متناغم، تضمن هذه الحلقات تحكمًا دقيقًا في السماكة والمنشطات وخصائص العيوب للطبقة الفوقية من SiC المزروعة داخل غرفة التفاعل.

بالإضافة إلى حلقاتنا المطلية بـ TaC الاستثنائية، تقدم VeTek Semiconductor مجموعة واسعة من المنتجات ذات الصلة المصممة خصيصًا لغرف التفاعل. تشتمل مجموعة منتجاتنا على نصف قمر علوي وسفلي، وأغطية واقية، وأغطية عازلة، وواجهات تحويل هواء المعالجة. يخضع كل من هذه المكونات لطلاء دقيق من SiC أو TaC لتعزيز الأداء وإطالة عمرها الافتراضي.

معلمة المنتج للحلقة المطلية بـ TaC لمفاعل SiC الفوقي

الخصائص الفيزيائية لطلاء TaC
كثافة	14.3 (جم/سم3)
انبعاثية محددة	0.3
معامل التمدد الحراري	6.3 10-6/ك
صلابة (هونج كونج)	2000 هونج كونج
مقاومة	1 × 10-5 أوم * سم
الاستقرار الحراري	<2500 درجة مئوية
يتغير حجم الجرافيت	-10~-20um
سمك التغليف	≥20um القيمة النموذجية (35um±10um)