حلقة عاكسة مطلية بـ TaC

تعتبر حلقة العاكس المطلية بـ TaC من VeTek Semiconductor مكونًا متخصصًا للغاية مصمم لعمليات نمو بلورات SiC. يوفر طلاء TaC مقاومة ممتازة لدرجات الحرارة العالية وخمولًا كيميائيًا للتعامل مع درجات الحرارة المرتفعة والبيئات المسببة للتآكل أثناء عملية نمو البلورات. وهذا يضمن الأداء المستقر والعمر الطويل للمكونات، مما يقلل من تكرار الاستبدال ووقت التوقف عن العمل. نحن ملتزمون بتقديم منتجات عالية الجودة بأسعار تنافسية ونتطلع إلى أن نكون شريكك على المدى الطويل في الصين.

إرسال استفسار

وصف المنتج

VeTek Semiconductor هي شركة متخصصة في تصنيع وتوريد حلقة العاكس المطلية بـ TaC في الصين. إن حلقة العاكس المطلية بـ TaC هي مكونات متخصصة للغاية مصممة للاستخدام في عمليات نمو بلورات SiC. تعتبر هذه المكونات ضرورية في البيئات التي تتطلب مقاومة درجات الحرارة العالية، والمتانة الاستثنائية، والخمول الكيميائي الذي لا مثيل له.

يتم تصنيع حلقة العاكس المطلية بـ TaC من كربيد التنتالوم عالي النقاء، والذي يوفر توصيلًا حراريًا ممتازًا ومقاومة شديدة لدرجات الحرارة المرتفعة والصدمات الحرارية. يوفر طلاء TaC الخاص بالمكون طبقة إضافية من الحماية ضد المواد الكيميائية العدوانية والبيئات القاسية الشائعة في نمو البلورات. يزيد وجود الطلاء من متانة وعمر المكون، مما يحافظ على أداء ثابت على مدار دورات متعددة.

يمكن أن تتحمل حلقة العاكس المطلية بـ TaC درجات حرارة تصل إلى 2200 درجة مئوية، مما يجعلها مثالية لعمليات درجات الحرارة المرتفعة. تُستخدم حلقة العاكس المطلية بـ TaC بشكل أساسي في صناعة أشباه الموصلات، خصيصًا لنمو بلورات كربيد السيليكون. مناسبة لكل من مفاعلات النمو البلوري البحثية والصناعية.

معلمة المنتج الخاصة بحلقة العاكس المطلية بـ TaC

الخصائص الفيزيائية لطلاء TaC
كثافة	14.3 (جم/سم3)
انبعاثية محددة	0.3
معامل التمدد الحراري	6.3 10-6/ك
صلابة (هونج كونج)	2000 هونج كونج
مقاومة	1 × 10-5 أوم * سم
الاستقرار الحراري	<2500 درجة مئوية
يتغير حجم الجرافيت	-10~-20um
سمك التغليف	≥20um القيمة النموذجية (35um±10um)