ما هو طلاء كربيد التنتالوم؟

تتمتع مادة سيراميك كربيد التنتالوم (TaC) بنقطة انصهار تصل إلى 3880 درجة مئوية وهي مركب ذو نقطة انصهار عالية وثبات كيميائي جيد. يمكنه الحفاظ على أداء مستقر في بيئات درجة الحرارة العالية. بالإضافة إلى ذلك، فهي تتمتع أيضًا بمقاومة درجات الحرارة العالية، ومقاومة التآكل الكيميائي، والتوافق الكيميائي والميكانيكي الجيد مع المواد الكربونية، مما يجعلها مادة طلاء واقية مثالية لركيزة الجرافيت. 

يمكن لطلاء كربيد التنتالوم أن يحمي بشكل فعال مكونات الجرافيت من تأثيرات الأمونيا الساخنة والهيدروجين وبخار السيليكون والمعادن المنصهرة في بيئات الاستخدام القاسية، مما يزيد بشكل كبير من عمر خدمة مكونات الجرافيت ويمنع هجرة الشوائب في الجرافيت، مما يضمن جودةالفوقيونمو الكريستال.

الشكل 1. مكونات كربيد التنتالوم المشتركة المغلفة

يعد ترسيب البخار الكيميائي (CVD) الطريقة الأكثر نضجًا والأمثل لإنتاج طلاءات TaC على أسطح الجرافيت.

باستخدام TaCl5 والبروبيلين كمصادر للكربون والتنتالوم على التوالي، والأرجون كغاز حامل، يتم إدخال بخار TaCl5 المتبخر بدرجة حرارة عالية إلى غرفة التفاعل. عند درجة الحرارة والضغط المستهدفين، يتم امتصاص بخار المادة الأولية على سطح الجرافيت، ويخضع لسلسلة من التفاعلات الكيميائية المعقدة مثل التحلل والجمع بين مصادر الكربون والتنتالوم، بالإضافة إلى سلسلة من التفاعلات السطحية مثل الانتشار وامتزاز المواد. المنتجات الثانوية من السلائف. أخيرًا، يتم تشكيل طبقة واقية كثيفة على سطح الجرافيت، والتي تحمي الجرافيت من الوجود المستقر في ظل الظروف البيئية القاسية وتوسع بشكل كبير سيناريوهات تطبيق مواد الجرافيت.

الشكل 2.مبدأ عملية ترسيب البخار الكيميائي (CVD).

فيتيك لأشباه الموصلاتيوفر بشكل رئيسي منتجات كربيد التنتالوم: حلقة دليل TaC، حلقة ثلاث بتلات مطلية بـ TaC، بوتقة طلاء TaC، يستخدم الجرافيت المسامي المطلي بـ TaC على نطاق واسع هو عملية نمو كريستال SiC؛ الجرافيت المسامي مع طلاء TaC، حلقة دليل مطلية بـ TaC، حامل رقاقة الجرافيت المطلي بـ TaC، مستقبلات طلاء TaC، مستقبلات كوكبية، مستقبلات الأقمار الصناعية المطلية بـ TaC، وتستخدم منتجات طلاء كربيد التنتالوم على نطاق واسع فيعملية الفوقية SiCوعملية نمو بلورة مفردة من SiC.

الشكل 3.بيطريمنتجات طلاء كربيد التنتالوم الأكثر شهرة من شركة ek لأشباه الموصلات