خصائص نتاج السيليكون

خصائص نبتة السيليكون هي كما يلي:

نقاء عالي: تتميز الطبقة الفوقية من السيليكون التي تنمو عن طريق ترسيب البخار الكيميائي (CVD) بنقاء عالٍ للغاية، وتسطيح سطحي أفضل وكثافة عيوب أقل من الرقائق التقليدية.

توحيد الأغشية الرقيقة: يمكن أن تشكل طبقة السيليكون الرقيقة طبقة رقيقة موحدة جدًا في ظل معدل نمو مضمون معين. وفي الوقت نفسه، يمكن تحقيق توحيد التسخين، وبالتالي تقليل عيوب البنية البلورية وتحسين جودة البلورة.

إمكانية تحكم قوية: يمكن لتقنية تنضيد السيليكون التحكم بدقة في مورفولوجيا مواد السيليكون وحجمها وبنيتها، ويمكنها تنمية الهياكل البلورية المعقدة، مثل الوصلات المتغايرة متعددة الطبقات.

قطر الرقاقة الكبيرة: يمكن لتكنولوجيا النمو الفوقي للسيليكون أن تنمو رقائق السيليكون بأقطار كبيرة، كما أن القدرة على إنتاج رقائق السيليكون ذات القطر الكبير أمر بالغ الأهمية لإنتاج أشباه الموصلات.

موثوقية العملية: يمكن إعادة استخدام عملية السيليكون الفوقي عدة مرات، وهو أمر ذو أهمية كبيرة للإنتاج الضخم لأجهزة أشباه الموصلات.