قطاعات غطاء طلاء SiC

يمكنك أن تطمئن إلى شراء شرائح غطاء طلاء SiC من مصنعنا.

تعمل تقنية Micro LEDs على تعطيل النظام البيئي LED الحالي باستخدام أساليب وأساليب لم يتم رؤيتها حتى الآن إلا في صناعات شاشات الكريستال السائل أو أشباه الموصلات. يدعم نظام Aixtron G5 MOCVD هذه المتطلبات التوسعية الصارمة بشكل مثالي. إنه مفاعل MOCVD قوي مصمم بشكل أساسي لنمو GaN القائم على السيليكون.

Aixtron G5 عبارة عن نظام أفقي للقرص الكوكبي، يتكون بشكل أساسي من مكونات مثل القرص الكوكبي المطلي بـ CVD SiC، ومستقبل MOCVD، وقطاعات غطاء طلاء SiC، وحلقة غطاء طلاء SiC، وسقف طلاء SiC، وحلقة دعم طلاء SiC، وقرص غطاء طلاء SiC، مجمع عادم طلاء SiC، غسالة الدبوس، حلقة مدخل المجمع، إلخ.

باعتبارها شركة مصنعة لطلاء CVD SiC، تقدم VeTek Semiconductor شرائح غطاء طلاء Aixtron G5 SiC. هذه المستقبلات مصنوعة من الجرافيت عالي النقاء وتتميز بطبقة CVD SiC مع شوائب أقل من 5 جزء في المليون.

تتميز منتجات قطاعات غطاء طلاء CVD SiC بمقاومة ممتازة للتآكل، وموصلية حرارية فائقة، وثبات في درجات الحرارة العالية. هذه المنتجات تقاوم بشكل فعال التآكل الكيميائي والأكسدة، مما يضمن المتانة والثبات في البيئات القاسية. تتيح التوصيل الحراري المتميز نقل الحرارة بكفاءة، مما يعزز كفاءة الإدارة الحرارية. بفضل ثباتها في درجات الحرارة العالية ومقاومتها للصدمات الحرارية، يمكن لطلاءات CVD SiC أن تتحمل الظروف القاسية. إنها تمنع انحلال وأكسدة ركيزة الجرافيت، مما يقلل التلوث ويحسن كفاءة الإنتاج وجودة المنتج. يوفر سطح الطلاء المسطح والموحد أساسًا متينًا لنمو الفيلم، مما يقلل من العيوب الناجمة عن عدم تطابق الشبكة ويعزز تبلور الفيلم وجودته. باختصار، توفر منتجات الجرافيت المطلية بـ CVD SiC حلولًا مادية موثوقة لمختلف التطبيقات الصناعية، وتجمع بين المقاومة الاستثنائية للتآكل، والتوصيل الحراري، واستقرار درجات الحرارة العالية.

الخصائص الفيزيائية الأساسية لطلاء CVD SiC:

السلسلة الصناعية:

متجر الإنتاج