قارب رقاقة كربيد السيليكون

إن قارب رقاقة كربيد السيليكون عالي النقاء من VeTek Semiconductor مصنوع من مادة كربيد السيليكون النقية للغاية مع ثبات حراري ممتاز وقوة ميكانيكية ومقاومة كيميائية. يتم استخدام قارب رقاقة كربيد السيليكون عالي النقاء في تطبيقات المناطق الساخنة في تصنيع أشباه الموصلات، خاصة في البيئات ذات درجات الحرارة العالية، ويلعب دورًا مهمًا في حماية الرقائق ونقل المواد والحفاظ على العمليات المستقرة. ستواصل شركة VeTek Semiconductor العمل الجاد لابتكار وتحسين أداء قارب رقاقة كربيد السيليكون عالي النقاء لتلبية الاحتياجات المتطورة لتصنيع أشباه الموصلات. ونحن نتطلع إلى أن نصبح شريكك على المدى الطويل في الصين.

إرسال استفسار

وصف المنتج

باعتبارها الشركة المصنعة المهنية، تود شركة VeTek Semiconductor أن تقدم لك قاربًا عالي الجودة من كربيد السيليكون.

أداء حراري ممتاز: يتمتع قارب رقاقة كربيد السيليكون عالي النقاء من VeTek Semiconductor بأداء حراري ممتاز، ومستقر في البيئات ذات درجات الحرارة العالية، وله موصلية حرارية ممتازة، مما يسمح له بالعمل في درجات حرارة أعلى بكثير من البيئة المحيطة. وهذا يجعل قارب ويفر كربيد السيليكون عالي النقاء مثاليًا لتطبيقات التحمل عالية الطاقة ودرجات الحرارة العالية.

مقاومة ممتازة للتآكل: يعتبر قارب رقاقة كربيد السيليكون عالي النقاء أداة رئيسية لتصنيع أشباه الموصلات، كما أنه يتمتع بمقاومة قوية لمختلف العوامل المسببة للتآكل. وباعتباره حاملًا موثوقًا به، فإنه يمكنه تحمل تأثيرات درجات الحرارة العالية والتآكل في البيئة الكيميائية، مما يضمن المعالجة الآمنة والفعالة لرقائق كربيد السيليكون. وباعتباره حاملًا موثوقًا به، فإنه يمكنه تحمل تأثيرات درجات الحرارة العالية والتآكل في البيئة الكيميائية، مما يضمن المعالجة الآمنة والفعالة لرقائق كربيد السيليكون.

سلامة الأبعاد: لا يتقلص قارب رقاقة كربيد السيليكون عالي النقاء أثناء عملية التلبيد، مما يحافظ على سلامة الأبعاد ويزيل الضغوط المتبقية التي قد تتسبب في تشوه الأجزاء أو تشققها. وهذا يتيح تصنيع أجزاء معقدة الشكل بأبعاد دقيقة. سواء كان ذلك في تصنيع أجهزة أشباه الموصلات أو المجالات الصناعية الأخرى، يوفر قارب رقاقة كربيد السيليكون عالي النقاء تحكمًا موثوقًا في الأبعاد لضمان تلبية الأجزاء للمواصفات.

كأداة متعددة الاستخدامات، يمكن تطبيق قارب رقاقة كربيد السيليكون عالي النقاء من VeTek Semiconductor على مجموعة متنوعة من تقنيات تصنيع أشباه الموصلات، بما في ذلك النمو الفوقي وترسيب البخار الكيميائي. إن تصميمه المتين وطبيعته غير التفاعلية يجعلان قارب رقاقة كربيد السيليكون عالي النقاء مناسبًا لمجموعة متنوعة من كيميائيات المعالجة، مما يضمن قدرته على التكيف بسلاسة مع بيئات المعالجة المختلفة.

في صناعة أشباه الموصلات، يعد النمو الفوقي وترسيب البخار الكيميائي من خطوات العملية الشائعة المستخدمة في إنتاج الرقائق والأغشية الرقيقة عالية الجودة. يلعب قارب SiC عالي النقاء دورًا مهمًا كحامل، حيث يمكنه تحمل تأثير درجات الحرارة المرتفعة والمواد الكيميائية لضمان عمليات النمو والترسيب الدقيقة.

بالإضافة إلى تصميمه المتين، فإن قارب SiC عالي النقاء غير متفاعل أيضًا. وهذا يعني أنها لن تتفاعل بشكل سلبي مع المواد الكيميائية المعالجة، وبالتالي الحفاظ على سلامة وأداء القارب. وهذا يوفر لمصنعي أشباه الموصلات أداة موثوقة لضمان الاتساق والتكرار في عملية الإنتاج.

الخصائص الفيزيائية لكربيد السيليكون المعاد بلورته

الخصائص الفيزيائية لكربيد السيليكون المعاد بلورته
ملكية	القيمة النموذجية
درجة حرارة العمل (درجة مئوية)	1600 درجة مئوية (مع الأكسجين)، 1700 درجة مئوية (تقليل البيئة)
محتوى كربيد السيليكون	> 99.96%
محتوى سي مجاني	<0.1%
الكثافة الظاهرية	2.60-2.70 جم/سم3
المسامية الظاهرة	< 16%
قوة الضغط	> 600 ميجا باسكال
قوة الانحناء الباردة	80-90 ميجا باسكال (20 درجة مئوية)
قوة الانحناء الساخنة	90-100 ميجا باسكال (1400 درجة مئوية)
التمدد الحراري عند 1500 درجة مئوية	4.70 10-6/درجة مئوية
الموصلية الحرارية عند 1200 درجة مئوية	23 وات/م•ك
معامل المرونة	240 جيجا باسكال
مقاومة الصدمة الحرارية	جيدة للغاية