طلاء CVD TAC

طلاء CVD TaC (طلاء كربيد التنتالوم الترسيب الكيميائي للبخار) هو منتج طلاء يتكون بشكل رئيسي من كربيد التنتالوم (TaC). يتميز طلاء TaC بالصلابة العالية للغاية، ومقاومة التآكل، ومقاومة درجات الحرارة العالية، مما يجعله خيارًا مثاليًا لحماية مكونات المعدات الرئيسية وتحسين موثوقية العملية. إنها مادة لا غنى عنها في معالجة أشباه الموصلات.

عادةً ما تُستخدم منتجات طلاء CVD TaC في غرف التفاعل، وحاملات الرقاقات، ومعدات الحفر، وتلعب الأدوار الرئيسية التالية فيها.

غالبًا ما يستخدم طلاء CVD TaC للمكونات الداخلية لغرف التفاعل مثل الركائز وألواح الجدران وعناصر التسخين. إلى جانب مقاومته الممتازة لدرجة الحرارة العالية، يمكنه مقاومة التآكل الناتج عن درجات الحرارة العالية والغازات المسببة للتآكل والبلازما بشكل فعال، وبالتالي إطالة عمر خدمة المعدات بشكل فعال وضمان استقرار العملية ونقاء إنتاج المنتج.

بالإضافة إلى ذلك، تتمتع ناقلات الرقاقة المطلية بـ TaC (مثل قوارب الكوارتز والتركيبات وما إلى ذلك) أيضًا بمقاومة ممتازة للحرارة ومقاومة للتآكل الكيميائي. يمكن لحامل الرقاقة أن يوفر دعمًا موثوقًا للرقاقة في درجات الحرارة العالية، ويمنع تلوث الرقاقة وتشوهها، وبالتالي تحسين إنتاجية الرقاقة الإجمالية.

علاوة على ذلك، يتم أيضًا استخدام طلاء TaC الخاص بـ VeTek Semiconductor على نطاق واسع في العديد من معدات الحفر وترسيب الأغشية الرقيقة، مثل أدوات حفر البلازما، وأنظمة ترسيب البخار الكيميائي، وما إلى ذلك. في أنظمة المعالجة هذه، يمكن لطلاء CVD TAC أن يتحمل القصف الأيوني عالي الطاقة والتفاعلات الكيميائية القوية ، وبالتالي ضمان دقة العملية وتكرارها.

مهما كانت متطلباتك المحددة، فسوف نطابق أفضل الحلول لاحتياجات طلاء CVD TAC الخاصة بك ونتطلع إلى استشارتك في أي وقت.

الخصائص الفيزيائية الأساسية لطلاء CVD TAC:

متاجر منتجات طلاء VeTek Semiconductor CVD TAC:

نظرة عامة على سلسلة صناعة رقائق أشباه الموصلات: