حساس البرميل المطلي بـ SiC لـ LPE PE2061S

VeTek Semiconductor هي شركة رائدة في تصنيع ومبتكر البراميل المطلية بـ SiC لـ LPE PE2061S في الصين. لقد تخصصنا في مواد طلاء SiC لسنوات عديدة. نحن نقدم مستقبلًا برميليًا مطليًا بـ SiC مصممًا خصيصًا لرقائق LPE PE2061S مقاس 4 بوصات. يتميز هذا المستقبِل بطبقة متينة من كربيد السيليكون تعمل على تعزيز الأداء والمتانة أثناء عملية LPE (المرحلة السائلة). نرحب بكم لزيارة مصنعنا في الصين.

إرسال استفسار

وصف المنتج

VeTek Semiconductor عبارة عن شركة متخصصة في تصنيع البراميل المطلية بـ SiC في الصينLPE PE2061Sالشركة المصنعة والموردة.

يعتبر جهاز VeTeK الأسطواني المطلي بطبقة SiC لـ LPE PE2061S منتجًا عالي الأداء تم إنشاؤه من خلال تطبيق طبقة دقيقة من كربيد السيليكون على سطح الجرافيت المتناحي الخواص عالي النقاء. يتم تحقيق ذلك من خلال ملكية VeTeK Semiconductorترسيب البخار الكيميائي (CVD)عملية.

إن منتجنا Susceptor البرميلي المطلي بـ SiC لـ LPE PE2061S هو نوع من مفاعل برميل الترسيب الفوقي CVD المصمم لتقديم أداء موثوق به في البيئات القاسية. إن التصاق الطلاء الاستثنائي، ومقاومته للأكسدة في درجات الحرارة العالية، ومقاومته للتآكل يجعله خيارًا ممتازًا للاستخدام في الظروف القاسية. بالإضافة إلى ذلك، فإن مظهره الحراري الموحد ونمط تدفق الغاز الرقائقي يمنعان التلوث، مما يضمن نموًا فوقي عالي الجودة.

التصميم على شكل برميل لأشباه الموصلات لدينامفاعل الفوقييعمل على تحسين أنماط تدفق الغاز الصفحي، مما يضمن توزيعًا موحدًا للحرارة. وهذا يساعد على منع أي تلوث أو انتشار للشوائب،ضمان النمو الفوقي عالي الجودة على ركائز الرقاقة.

نحن ملتزمون بتزويد عملائنا بمنتجات عالية الجودة وفعالة من حيث التكلفة. يوفر جهاز Barrel Susceptor المطلي بـ CVD SiC ميزة القدرة التنافسية السعرية مع الحفاظ على كثافة ممتازة لكل منالركيزة الجرافيتوطلاء كربيد السيليكون، مما يوفر حماية موثوقة في بيئات العمل ذات درجات الحرارة العالية والتآكل.

بيانات SEM الخاصة بالهيكل البلوري لفيلم CVD:

CVD SIC FILM CRYSTAL STRUCTURE

يُظهر مُستقبل البرميل المطلي بـ SiC للنمو البلوري الفردي نعومة سطحية عالية جدًا.

إنه يقلل من الفرق في معامل التمدد الحراري بين الركيزة الجرافيت و

طلاء كربيد السيليكون، يحسن بشكل فعال قوة الترابط ويمنع التشقق والتصفيح.

يتمتع كل من الركيزة الجرافيتية وطلاء كربيد السيليكون بموصلية حرارية عالية وقدرات توزيع حرارية ممتازة.

لديها نقطة انصهار عالية، وارتفاع درجة الحرارةمقاومة الأكسدة، ومقاومة التآكل.

الخصائص الفيزيائية الأساسية لطلاء CVD SiC:

الخصائص الفيزيائية الأساسية لطلاء CVD SiC
ملكية	القيمة النموذجية
الهيكل البلوري	FCC β طور متعدد البلورات، موجه بشكل رئيسي (111).
كثافة	3.21 جم/سم3
صلابة	2500 صلابة فيكرز (حمولة 500 جرام)
حجم الحبوب	2 ~ 10 ميكرومتر
النقاء الكيميائي	99.99995%
القدرة الحرارية	640 جول·كجم^-1· ك^-1
درجة حرارة التسامي	2700 درجة مئوية
قوة العاطفة	415 ميجا باسكال RT 4 نقاط
معامل يونغ	430 جيجا باسكال 4pt منحنى، 1300 درجة مئوية
الموصلية الحرارية	300 واط · م^-1· ك^-1
التمدد الحراري (CTE)	4.5×10^-6K^-1